[컨콜] SK하이닉스, 작년 13조4000억원 시설 투자

SK하이닉스가 지난 한해 총 13조4000억원 규모의 시설 투자를 단행했다고 28일 밝혔다.

노종원 SK하이닉스 사장은 이날 4분기 실적발표 컨퍼런스콜에서 이 같이 밝혔다.

노 사장은 올해 투자 규모는 작년보다 증가할 것으로 예상되며, 용인 반도체 신규공장 부지매입과 미국 연구개발(R&D) 센터 건립 등에 주로 투입될 예정이라고 전했다.

노 사장은 인텔 낸드플래시 사업부 인수에 따른 낸드플래시 사업 확대 자신감도 드러냈다.

노 사장은 “인텔 낸드사업부 인수를 통해 SK하이닉스는 낸드플래시 후발 주자에서 세계 2위 업체로 도약하는 계기를 마련했다”며 “시장 점유율도 기존 양사의 점유율을 단순 합산한 것 이상을 달성할 것”이라고 말했다.

또 노 사장은 자사의 128단 낸드플래시 웨이퍼에 솔리다임(인텔 낸드플래스 사업부)의 컨트롤러 기술을 접목한 솔리드 스테이트 드라이브(SSD) 프로토타입 제품을 만드는 데 성공했고, 곧 시장에 출시할 예정이라고 소개했다.

아울러 솔리다임 물량까지 포함할 경우 낸드플래시 출하량이 전년 대비 2배 수준으로 늘어날 것으로 전망했다.

솔리다임의 매출은 올해부터 본격적으로 SK하이닉스의 연결 매출로 반영된다.

이날 SK하이닉스는 지난해 반도체 시장 호황에 힘입어 매출 42조9978억원, 영업이익 12조4103억원을 달성했다고 발표했다. 매출은 창사 이래 최대 규모이고, 영업이익은 2018년 이후 최대치다.