삼성전자 올해 전체 시설투자 35조원 전년比 증가 예상…“5나노 공정 증설”

삼성전자 평택 2공장 전경/제공=삼성전자

삼성전자는 올해 전체 시설투자 금액이 약 35조2000억원으로 전년 대비 증가가 예상된다고 29일 밝혔다. 사업별로는 반도체 28조9000억원, 디스플레이는 4조3000억원 수준이다.

삼성전자 관계자는 “이 수치는 현재 시점에서의 전망치로서 추후 시장 상황과 설비 입고 시점 등 변수에 따라 변동가능성은 있다”고 설명했다.

삼성전자에 따르면 회사 측은 3분기 시설에 8조4000억원을 투자했다. 사업부문별로는 반도체 6조6000억원, 디스플레이 1조5000억원 수준이다.

3분기 누계로는 25조5000억원이 집행됐고, 반도체 21조3000억원, 디스플레이 3조1000억원 수준이다.

사업별로 보면 메모리의 경우, 향후 수요 증가 대응 등을 위한 첨단공정 전환과 증설 투자가 전년 대비 증가가 예상된다. 파운드리도 극자외선(EUV) 5나노 공정 등 증설 투자로 늘 것으로 보인다.

디스플레이는 QD 디스플레이 생산능력과 중소형 신기술 공정 중심으로 투자가 증가할 것으로 예상된다.