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2차전지 설비업체 디에이테크놀로지는 장폭 셀 스태킹 설비 개발에 성공했다고 5일 밝혔다.
회사에 따르면 이번에 개발된 장폭 셀 스태킹의 최고 속도는 시트당 0.5초다. 스택 하나 쌓는 시간이 0.5초가 걸린다는 의미다.
이번에 개발된 장폭 셀 스태킹엔 신규 적층방식을 활용해 셀 무너짐 현상을 완화해 주는 등 신규 기술 세 가지가 적용됐다.
회사는 기술연구 개발에 지속적으로 힘쓰고 있다. 지난달엔 2차전지의 와인딩 방식 셀 스택 제조 장치 및 방법에 관한 특허를 취득한 데 이어 고속 레이저 노칭 장비 개발에도 성공했다.
디에이테크놀로지 관계자는 “이번 장폭 셀 스태킹 설비 개발에 성공하면서 2차전지 시장에서 당사의 입지가 더욱 강화될 것으로 기대된다”며 “올 하반기에도 국내외 배터리 증설 이슈가 있는 만큼 기술경쟁력을 통해 수주를 확대해 나가겠다”고 말했다.