삼성전자 작년 연구개발비 21조…매출액 10% 투자 눈앞

전년보다 1조원 이상 증액…매출액 9% 수준
시설투자비 38조…"경쟁력 강화 위해 투자"

삼성전자 평택 2라인./제공=삼성전자

삼성전자가 지난해 역대 최대 수준의 연구개발비를 투입하며 반도체 초격차를 위한 공격 행보를 이어갔다. 21조원이 넘는 연구개발비는 작년 한해 매출의 9% 수준으로 7% 안팎을 기록했던 2016~2018년 때보다 큰 폭으로 증가했다. 삼성전자는 올해도 반도체와 디스플레이 등 사업 경쟁력 강화를 위한 대규모 투자를 예고해 업계의 기대를 모은다.

10일 삼성전자의 2020년 사업보고서에 따르면 이 회사는 작년 한해 연구개발비로 21조2000억원을 지출해 역대 최대 수준을 기록했다. 전년 연구개발비(20조2000억원)보다는 1조원 가량 늘어난 금액이다.

삼성전자의 매출액 대비 연구개발비 비율은 2017년 7.0%에서 2018년 7.7%, 2019년 8.8%, 지난해 9.0%로 지속해서 증가 추세를 보였다. 금액으로 따지면 2017년 16조8000억원에서 2019년 18조6000억원 등으로 매년 1조원 이상씩 늘었다.

경쟁사인 LG전자의 경우 지난해 연구개발비를 아직 공개하지 않았지만 2017~2019년 3년간 매출액의 6.5%를 연구개발비로 썼다. SK하이닉스는 2019년 전체 매출액의 11.80%를 연구개발비에 투입했지만 직전해인 2018년에는 7.20%를 써 뚜렷한 추세를 보이지는 않았다.

공격적인 연구개발비 확대 덕분에 삼성전자의 지난해 특허취득 건수도 크게 늘었다. 삼성전자는 작년 한해 한국에서 특허 6648건, 미국에서 8520건의 특허를 취득했다. 특히 국내 특허의 경우 2018년 3068건에서 2019년 5075건, 2020년 6648건으로 눈에 띄는 증가세를 보였다.

삼성전자의 지난해 시설투자액은 총 38조5000억원으로 전년 대비 11조6000억원 증가했다. 이는 반도체 호황기였던 2017년의 43조4000억원 이후 가장 많은 금액이다. 전체 투자액 중 85%인 32조9000억원은 반도체에 투자했다. 디스플레이에 3조9000억원, 기타 시설에 1조7000억원을 투입했다.

메모리 반도체의 경우 첨단 공정 전환과 증설로 투자가 늘었고, 파운드리(반도체 위탁생산)는 극자외선(EUV) 5나노 공정을 중심으로 투자비가 확대됐다. 디스플레이의 경우 퀀텀닷(QD) 디스플레이 생산능력 확대와 중소형 신기술 공정 중심으로 전년 대비 투자가 늘었다.

삼성전자는 올해 역시 대규모 설비 투자를 이어간다는 계획이다.

삼성전자는 “2021년 시설투자는 메모리·시스템반도체 선단 공정의 증설·전환 및 인프라 투자, 디스플레이 증설 투자 등 주력 사업의 경쟁력 강화를 위해 투자할 예정”이라고 밝혔다.