‘반도체 핵심 기술 무단 유출’ 前 삼성전자 부장 2심서 감형

1심 징역 7년서 2심 6년으로 감형
삼성전자 수조원 매출감소 타격 입어

서울중앙지방법원/박성일 기자

반도체 핵심 기술을 중국 경쟁기업으로 무단 유출한 혐의를 받는 전직 삼성전자 부장이 2심에서 감형됐다.

서울고법 형사8부(김성수·김윤종·이준현 부장판사)는 23일 산업 기술의 유출 방지 및 보호에 관한 법률 위반 등 혐의를 받는 김모씨에게 징역 6년과 벌금 2억 원을 선고했다.

협력업체인 반도체 장비 생산업체 A사의 전 직원 방모씨와 김모씨는 1심의 징역 2년 6개월과 징역 1년 6개월이 유지됐다. 나머지 공범 역시 1심과 동일한 징역형 집행유예가 선고됐다.

김 전 부장은 항소심에서 원심의 사실오인을 주장하며 무죄를 요청했으나 재판부는 이를 모두 받아들이지 않았다. 1심에서 무죄가 선고된 부분에 관한 검찰 측 주장도 기각됐다.

재판부는 김 전 부장에 대해 "피해 회사들의 막대한 피해가 유발될 수밖에 없고 국가에도 악영향을 주는 중대한 범죄를 저지르면서 범행을 주도했다"며 "피해 회복 가능성도 없어 이에 상응하는 엄한 처벌이 필요하다"고 지적했다. 이어 "타 피고인들과 관련자들은 공소사실을 인정하고 있다"고 덧붙였다.

다만 "피고인이 다니던 회사에서 해고되고 해외에 재취업이 어려워지자 중국 기업에 취업해서 이 사건 범행에 이르렀다"며 "검찰 수사에 협조한 점 등을 고려해 원심보다 낮은 형을 선고했다"며 감형 이유를 밝혔다.

앞서 이들은 삼성전자가 1조6000억원을 들여 개발한 18나노 D램 공정 정보를 중국 반도체 업체 창신메모리테크놀로지(CXMT)로 무단 유출한 혐의를 받는다. 해당 유출 건으로 삼성전자의 지난해 매출감소액은 수조원에 달하는 것으로 추정됐다.

CXMT가 반도체 증착장비 개발을 확정하자 A사 첨단기술인 설계 기술자료를 무단 유출한 혐의도 있다.

검찰은 이들이 2016년 CXMT로 이직하면서 기술을 유출하고 그 대가로 수백억원대 금품을 수수한 것으로 보고 지난해 1월 이들을 구속기소했다.

1심은 이들의 영업비밀 유출 관련 혐의를 대부분 유죄로 보고 김 전 부장에게 징역 7년과 벌금 2억원을 선고했다.