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이번 전시에서는 기존 청정 장비에 제습 기능을 더한 차세대 장비가 공개된다. 이 장비는 고도화된 반도체 공정에 특화됐으며 습도 감지 센서와 자동 제어 시스템으로 팹 내 공기 중 수분을 제거하고 일정한 습도를 유지한다. 이를 통해 웨이퍼 부식과 회로 이상을 예방하여 수율 향상에 기여한다.
HPL(High Performance Lift)도 선보인다. 이 장비는 클린룸 천장 시공 시 고소 작업을 지상 모듈화 방식으로 전환해 안전성을 크게 높였다. 작업대 범위를 확장하고 상부 설비를 동시에 시공할 수 있어 공정을 단축시킨다. 이를 통해 고객사의 팹 시공 기간과 비용을 절감하며, 안전사고 예방으로 ESG 경영에도 이바지한다.
이외 △레이저와 고감도 카메라로 미세 입자를 실시간 시각화하는 미립자 가시화 시스템 △외부 공기를 정화해 안정적인 클린룸 환경을 조성하는 외조기 (Outdoor Air Control Unit·OAC) △유해가스 제거와 청정 기능을 강화하면서 에너지를 절감하는 유해물질 제거필터(Internal Chemical Filter FFU·ICF) 등 다양한 혁신 장비가 전시된다.
신성이엔지 관계자는 "첨단 반도체 분야의 클린룸 사업을 넘어 데이터센터를 포함한 냉난방 공조 인프라 분야로 사업 영역을 확장하며, 글로벌 시장에서 선도적인 솔루션 기업으로 성장하고 있다"고 말했다.
신성이엔지는 1977년부터 클린룸 공조 분야를 개척해온 기업이다. 국내 최초로 산업용 공기청정기(FFU)를 국산화한 이후 반도체·디스플레이 클린룸 핵심 파트너로 성장했다. 현재는 국내를 넘어 말레이시아 텍사스인스트루먼트와 미국 반도체 팹 프로젝트 등 사업을 확대하고 있다.
