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회사에 따르면 이번 레이저 노칭 시스템은 2차전지의 전극을 연속적으로 이송하면서, 전극의 가장자리에 레이저를 지면과 수평하게 조사해 소정의 패턴으로 전극탭을 가공하는 형태다.
이번 특허 기술을 통해 공정 중에 발생하는 스크랩 및 분진을 하측으로 낙하시켜 제거할 수 있다. 또한 전극 필름 상에 레이저가 어긋나 전극탭의 형상이 정확하게 절삭되지 않는 문제를 해결될 수 있다.
최근 디에이테크놀로지는 2차전지 설비 관련 기술력 강화에 초점을 맞추고 있다. 지난 8월 고속 레이저 노칭 장비와 장폭 셀 스태킹 개발에 성공했고, 지난 4일엔 150억원 규모의 제3자배정 유상증자를 결정하며, 2차전지 설비 사업 투자 강화에 나섰다.
디에이테크놀로지 관계자는 “지속적으로 기술경쟁력 확보에 힘 쏟고 있으며, 신규 기술을 통해 2차전지 설비 시장에서 입지를 강화할 수 있을 것”이라고 말했다.
