디에이테크놀로지, 2차전지 레이저 노칭 시스템 관련 신규 특허 취득

2차전지 설비업체 디에이테크놀로지는 전극의 레이저 노칭 공정용 패턴 지그 및 이를 구비한 레이저 노칭 시스템에 관한 신규 특허를 취득했다고 19일 밝혔다.

회사에 따르면 이번 레이저 노칭 시스템은 2차전지의 전극을 연속적으로 이송하면서, 전극의 가장자리에 레이저를 지면과 수평하게 조사해 소정의 패턴으로 전극탭을 가공하는 형태다.

이번 특허 기술을 통해 공정 중에 발생하는 스크랩 및 분진을 하측으로 낙하시켜 제거할 수 있다. 또한 전극 필름 상에 레이저가 어긋나 전극탭의 형상이 정확하게 절삭되지 않는 문제를 해결될 수 있다.

최근 디에이테크놀로지는 2차전지 설비 관련 기술력 강화에 초점을 맞추고 있다. 지난 8월 고속 레이저 노칭 장비와 장폭 셀 스태킹 개발에 성공했고, 지난 4일엔 150억원 규모의 제3자배정 유상증자를 결정하며, 2차전지 설비 사업 투자 강화에 나섰다.

디에이테크놀로지 관계자는 “지속적으로 기술경쟁력 확보에 힘 쏟고 있으며, 신규 기술을 통해 2차전지 설비 시장에서 입지를 강화할 수 있을 것”이라고 말했다.