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김 부회장은 이날 평택캠퍼스에서 열린 ‘K-반도체 벨트 전략 보고대회’를 통해 “2015년 평택단지 기공부터 2030년까지 창출된 생산 유발효과는 250조원 이상, 고용유발 효과는 130만명 이상이 예상된다”며 이같이 말했다.
삼성전자의 평택 3라인(P3)은 축구장 25배 크기의 규모로 현존하는 최첨단의 기술을 기반해 5나노 로직 제품을 양산할 계획이다.
그는 “3라인에서 생산되는 제품은 웨이퍼 반도체 칩으로 가공되기까지 총 100여일동안 250km를 이동하며 복잡하고 다양한 공정을 거치게 되는데, 이 모든 공정은 스마트 제어 시스템으로 인해 전체 자동 완료될 것”이라고 설명했다.
더불어 향후 2030년까지는 시스템 반도체 분야에 171조원을 투자해 파운드리 공정 연구개발·시설투자를 가속화하겠다고 발표했다.
김 부회장은 “한국이 줄곳 선두를 지켜온 메모리 분야에서도 추격이 거세다”며 “당초 2030년까지 계획했던 133조원은 171조원으로 확대해 최첨단 시설 투자를 서두르겠다”고 말했다. 이어 “결코 따라올수 없는 초격차를 벌리기 위해 삼성이 선제적 투자에 앞장서겠다”고 강조했다.
삼성전자는 시스템 반도체 특히 첨단 파운드리 사업 적극 확대해 5G, 인공지능(AI), 자율주행 등 우리나라 미래산업에 밑그림이 될 수 있도록 하겠다는 구상이다.
김 부회장은 “또한 반도체 생태계 구성 모두가 함께 성장해나갈수 있도록 상생 협력을 위한 노력도 소홀히 하지 않겠다”며 “공급망의 핵심인 소부장 업체, 우수인재를 길러내는 학교와 긴밀히 협업하겠다”고 말했다.















