• 아시아투데이 로고
삼성전자, 작년 시설투자 53.1조…반도체엔 47.9조

삼성전자, 작년 시설투자 53.1조…반도체엔 47.9조

기사승인 2023. 01. 31. 09:58
  • 페이스북 공유하기
  • 트위터 공유하기
  • 카카오톡 링크
  • 주소복사
  • 기사듣기실행 기사듣기중지
  • 글자사이즈
  • 기사프린트
삼성전자
삼성전자./연합
삼성전자는 지난해 53조1000억원, 4분기 20조2000억원 규모의 시설투자를 단행했다고 31일 밝혔다.

사업별 연간 시설 투자로는 반도체(DS) 부문에 47조9000억원, 디스플레이(SDC) 2조5000억원 수준이다.

4분기만 놓고 보면 DS 18조8000억원, 디스플레이(SDC)는 4000억원을 단행했다.

메모리의 경우 평택 3, 4기 인프라와 미래 경쟁력 강화를 위한 극자외선(EUV) 등 첨단 기술 적용 확대, 차세대 연구 개발 인프라 확보를 위한 투자를 중심으로 이뤄졌다.

반도체 위탁생산(파운드리)는 평택 첨단 공정 생산 능력 확대와 미래 수요 대응을 위한 3나노(㎚·1나노=10억분의 1m) 초기 생산 능력과 미국 테일러 공장 인프라 구축에 투자를 집중했다.

SDC는 중소형 플렉시블 생산 능력 확대와 인프라 투자에 집중했다.
후원하기 기사제보

ⓒ아시아투데이, 무단전재 및 재배포 금지


댓글