TSMC, 반도체 생산라인서 中 장비 배제…美 규제 대비

대상은 올해 양상 예정 2나노 공정 반도체 공장

대만 신주 본사에 있는 TSMC 본사의 혁신박물관에서 사람들이 나오고 있다./AFP 연합

대만의 반도체 제조업체 TSMC가 생산라인에서 중국 제조 장비를 배제하기로 한 것으로 25일 확인됐다. 그 대상은 올해 양산을 시작할 예정인 2㎚(나노미터) 공정 반도체 생산라인이다.

중국 장비에 대한 미국의 규제가 강화될 것을 예상해 생산에 차질이 생기는 것을 미연에 방지하기 위한 선제적 조치로 보인다.

니혼게이자이신문(닛케이)은 이날 복수의 관계자를 인용해 이를 전하며 TSMC가 대만 북부 신주 공장에서 2㎚ 제품을 양산하고 남부 가오슝과 미국 애리조나주에서도 생산을 시작할 계획이라고 보도했다.

TSMC는 그동안 생산라인에서 중국기업 중웨이반도체장비(AMEC)가 제작한 회로 형성용 식각 장비와 중국기업 계열사인 미국 매트슨 테크놀로지의 장비를 사용해 왔다.

이미 양산 중인 3㎚ 라인에서도 지난해 중국 장비 배제를 검토했으나 시간과 비용에 대한 부담이 커 실행을 연기했다.

TSMC는 장비뿐만 아니라 반도체 생산에 필요한 소재에서도 중국산을 줄이는 방안을 검토하고 있는 것으로 알려졌다.

미국 민주당 소속 마크 켈리 상원의원은 지난해 6월 미 정부의 자금을 조달받는 반도체 공장에서 중국산 장비 사용을 금지하는 법안을 발의했다.

TSMC는 미 정부의 보조금을 받아 애리조나주에 첨단 반도체 공장을 건설하고 있다. 향후 미국에서 2㎚ 제품을 양산하는 것이 목표다.