‘반도체 핵심기술 中 유출’…SK 하이닉스 협력업체 부사장 징역형

A사 임직원, HKMG 등 국가핵심기술 중국으로 유출
法 "공정한 경쟁질서 위협하는 것" 실형 및 징역형 선고

법원/박성일 기자

SK하이닉스의 반도체 핵심 기술과 삼성전자 계열사의 장비 도면 등을 중국에 유출한 혐의로 기소된 협력업체 부사장에게 실형이 선고됐다.

13일 법조계에 따르면 서울중앙지법 형사25-3부(지귀연 박정길 박정제 부장판사)는 산업기술의 유출 방지 및 보호에 관한 법률 위반 혐의로 기소된 SK하이닉스 협력업체 A사 부사장 신모씨에 대해 징역 1년을 선고했다. 재판부는 다만 신 부사장을 법정구속하지는 않았다.

함께 기소된 A사 법인에는 벌금 4억원을 선고했으며 같은 혐의로 재판에 넘겨진 나머지 직원 7명에는 징역 8개월에서 1년 6개월의 집행유예나 벌금형 등을 내렸다.

신모씨 등은 SK하이닉스와의 협업 과정에서 파악한 'HKMG'(High-K Metal Gate) 제조기술과 세정 레시피 등 반도체 관련 핵심 기술과 첨단기술, 영업비밀을 2018년 8월부터 2020년 6월까지 중국 반도체 업체로 유출한 혐의로 재판에 넘겨졌다.

'HKMG' 기술은 D램 반도체 성능 향상을 위해 신소재를 사용한 차세대 제조공정 기술이다.

이들은 삼성전자의 자회사인 세메스로부터 몰래 취득한 반도체 첨단기술과 영업비밀을 활용해 중국 수출용 장비를 개발한 혐의도 받는다.

재판부는 "국가핵심기술인 HKMG 관련 공정 기술과 세메스의 정보를 몰래 취득해 국외로 유출한 행위는 공정한 경쟁질서를 위협하는 것이며 그 죄질이 상당히 좋지 않다"고 판시했다.

다만 재판부는 SK하이닉스와 공동개발한 세정장비 사양을 다른 업체에 알려준 혐의에 대해서는 "공동개발 계약서상 대외발표만 금지한다는 조항이 있다"며 무죄로 판단했다.

검찰은 앞서 국가정보원 산하 산업기밀보호센터로부터 국내 반도체 관련 핵심 기술이 중국으로 유출된 정황이 있다는 정보를 받고 수사에 착수해 2021년 1월 이들을 기소한 바 있다.