고려아연, 미국 제련소에 반도체 황산 생산 라인 검토…연간 10만t 규모

2029년 미국 제련소 시운전과 함께 생산 개시
"첨단 산업 공급망 뒷받침하는 핵심 파트너"

고려아연 사옥. /고려아연

고려아연이 미국 통합 제련소에 반도체 황산을 연간 10만t씩 생산할 수 있는 라인 구축할 예정이다. 이르면 오는 2029년 미국 통합 제련소 시운전과 함께 생산을 개시하겠다는 계획이다. 이를 통해 미국 첨단 산업 공급망을 뒷받침하는 핵심 파트너 역할을 하겠다는 방침이다.

18일 고려아연에 따르면 회사는 지난해 미국 정부와 투자자와 함께 테네시주에 통합 제련소를 건설과 함께 반도체 황산 사업의 글로벌 확장 계획도 검토했다. 미국이 반도체 제조시설 건설·공급망 구축에 주력하고 있는 상황을 고려했다.

고려아연 관계자는 "반도체 황산은 반도체의 수율과 신뢰성에 직결되는 핵심 소재인 만큼 AI 경쟁 심화와 글로벌 팹 증설 등과 함께 수요가 꾸준히 확대되는 품목"이라며 "오랜 기간 축적한 초고순도 황산 생산 기술을 바탕으로 반도체 공급망의 안정성을 뒷받침하는 동시에 이런 역량을 글로벌 시장으로 확대해 반도체 소재 공급망에서의 입지를 더욱 굳건히 다져 나가려 한다"고 말했다.

반도체 황산은 반도체 제조 공정 중 '세정 공정'에서 웨이퍼 표면의 불순물을 제거하는 데 쓰이는 핵심 소재다. 이 작업은 전체 세정 공정의 3분의 1을 차지한다. 반도체 황산의 순도와 품질 안정성은 갈수록 높아지고 있는 게 특징이다. 웨이퍼 표면의 오염 수준이 반도체 수율·신뢰성에 직접적 영향을 미치며, 반도체 회로가 미세화 될수록 불순물 허용 한도도 극도로 낮아지기 때문이다.

회사는 아연·연 제련 공정에서 발생하는 이산화황을 정제해 순도 99.99% 이상의 초고순도 반도체 황산을 생산하고 있다. 최윤범 회장 취임 후 생산 효율화와 라인 확대 투자를 이어가 현재 온산제련소 내 19개 라인에서 연간 28만톤t에 이르는 생산능력을 갖춘 상태이기도 하다. 지난 2024년부터 증설을 시작해 올해 하반기 연간 생산능력이 32만t까지 확대될 예정인데, 향후 추가 증설을 통해 50만t까지 끌어올릴 계획이다.