삼성전자, 작년 반도체 시설 투자에 43조6000억원

연합뉴스

삼성전자가 지난 한해 시설투자에 48조2000억원을 투입했다고 27일 밝혔다.

해당 금액의 90% 이상인 43조6000억원은 반도체에 썼다. 디스플레이에는 2조6000억원을 투자했다.

삼성전자는 “메모리는 극자외선(EUV) 기반 15나노 D램, V6 낸드 등 첨단공정 수요 대응을 위한 평택·시안 증설과 공정 전환, 평택 P3 라인 인프라 투자 등을 중심으로 시설투자가 진행됐다”며 “EUV를 포함한 차세대 기술 적용을 선제적으로 확대함에 따라 메모리 투자가 전년 대비 증가했다”고 설명했다.

이 외에 파운드리는 평택 EUV 5나노 첨단공정 증설 등을 중심으로 투자가 진행됐고, 디스플레이의 경우 중소형 모듈과 퀀텀닷(QD) 디스플레이에 중점을 두고 투자했다고 회사측은 밝혔다.