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플랑크랩은 설계 즉시 노광이 가능한 디지털 노광 장비 '리쏘 마스크리스(LITHO Maskless)'를 선보이며 반도체 개발의 디지털 전환을 이끌고 있다고 28일 밝혔다.
해당 장비는 포토마스크 없이 반도체 회로 패턴을 기판에 노광할 수 있는 장비로, 이미지 모양 그대로 노광할 수 있어 간편하다. PNG, JPG, BMP 등 다양한 이미지 파일로 즉시 UV패터닝이 가능해 마스크 제작에 소요되던 시간과 비용을 0으로 단축하고 연구 속도도 크게 향상할 수 있는 것이 특징이다.
반도체 개발 과정 중 '노광(lithography)' 공정은 필수 공정 중 하나로, 반도체 칩에 필요한 미세한 회로 패턴을 기판 위에 형상화하는 작업이다. 기존 노광 과정에는 투사할 패턴이 박혀 있는 틀의 역할을 하는 '포토마스크(photomask)'가 사용됐는데, 실험 모양이 바뀔 때마다 이 마스크를 새로 제작해야 했다.
또한 리쏘 마스크리스는 클린룸이라는 시설이 필요한 고가의 장비 대신 연구소들이 기존에 보유하고 있는 현미경에 모듈 형태로 부착하여 사용할 수 있다. 이에 소형·경량 설계로 클린룸 유지비가 들지 않고, 현미경 장비의 업사이클링까지 가능하다는 장점이 있다.
작은 공간에서도 반도체를 만들고 테스트할 수 있다는 점에서 예산이 한정적인 대학 연구실이나 스타트업에게도 부담이 없다. 이에 높은 경제성과 접근성으로 반도체 R&D의 문턱을 낮추고 국내외 연구 생태계 활성화에도 기여할 것으로 기대를 모으고 있다.
소형 장비임에도 고가 스테퍼 수준의 하이엔드 성능을 자랑하는 기술력도 높이 평가받고 있다. 독자 알고리즘 광균일도 보정 기술과 얼라인 뷰 기능 등 독자적 S/W 기술로 수억 원을 호가하는 대형 장비를 대체할 수 있다. 연구실 책상에서 간편하게 현미경에 부착하여 전통적인 마스크 얼라이너와 동등하거나 그 이상의 수준인 1μm급 정밀 패턴을 구현할 수 있다.
플랑크랩은 마스크리스 리소그래피 외에도 DLP 기술 기반 기술력을 지닌 혁신 스타트업으로서 광경화방식 마이크로 3D프린터 기술도 보유 중이다. 플랑크랩의 장비와 기술들은 약 20여 편의 국내외 논문에서 사용되며 검증된 데이터와 신뢰도를 쌓아가고 있다. 2025년 7월 설립된 기업임에도 반도체, 바이오 MEMS 등 다양한 첨단 분야 연구에서 핵심 도구로 사용되고 있으며 국내 30여 개 대학 및 연구소에서 플랑크랩의 장비로 활발한 리소그래피 연구를 진행하고 있다.
국내를 넘어 해외 수출의 성과를 내고 있다는 점도 눈길을 끈다. 미국, 중국, 싱가포르, 호주, 러시아 등의 해외 시장에 수출을 시작했으며, 지속적으로 수출국을 추가해 나갈 계획이다.
업체 관계자는 "차세대 마스크리스 리소그래피 시장의 글로벌 선도 기업으로 나아가는 것을 목표하고 있다"며, "현장 피드백을 기반으로 S/W를 지속적으로 업데이트하며 연구와 산업 현장의 혁신에 기여하겠다"고 전했다.
플랑크랩은 링크드인 계정을 통해 기업의 다양한 활동을 소개하고 있으며, 공식 홈페이지를 통해 기업 및 기술 관련 상세 정보를 확인할 수 있다.
